光刻胶领域 我国取得新突破
--------
10月25日讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。（科技日报）(金十数据)
明天开盘继续布局一只！
每日一股VIP热订中...............................
(特别声明：仅供参考，入市有风险，投资需谨慎) --------
10月25日讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。（科技日报）(金十数据)
明天开盘继续布局一只！
每日一股VIP热订中...............................
更多精彩内容，关注云掌财经公众号（ID：yzcjapp）
以上内容由投资顾问徐***（执业编号：A079******）提供，以上建议仅供参考，据此操作，盈亏自担！股市有风险，投资需谨慎！珞珈投资ZX0077 售后投诉电话：0755-61957028 0755-25880000 联系地址：深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南一路28号达实大厦4002 联系人：李玲 点击查看风险提示及免责声明
- 热股榜
-
代码/名称 现价 涨跌幅 加载中...
加载中 ...![]()
